Droplet discharging device, method for forming pattern and method for manufacturing semiconductor device

WO2004097915 Art A1 11. November 2004

Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004097915
Aktenzeichen: EP04727720
Anmeldetag: 15. April 2004
Veröffentlichung: 11. November 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/288H01L21/3205H01L29/786H01L21/027B05D1/26B05C5/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Semiconductor Energy Laboratory

Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.

4.187 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von