Method and apparatus for treating organosiloxane coating film

WO2004097920 Art A1 11. November 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2004097920
Aktenzeichen
EP04728438
Anmeldetag
20. April 2004
Veröffentlichung
11. November 2004
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/312H01L21/316H01L21/31
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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