Pattern decision method and system, mask manufacturing method, focusing performance adjusting method, exposure method and device, program, and information recording medium

WO2004099874 Art A1 18. November 2004

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004099874
Aktenzeichen: EP04728010
Anmeldetag: 16. April 2004
Veröffentlichung: 18. November 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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