Verfahren zur Vermeidung von Kontamination und Euv-Lithographievorrichtung

WO2004099878 Art A2 18. November 2004

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004099878
Aktenzeichen: EP04731338
Anmeldetag: 6. Mai 2004
Veröffentlichung: 18. November 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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