Washing apparatus, washing system, and washing method

WO2004100241 Art A1 18. November 2004

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004100241
Aktenzeichen: EP04726000
Anmeldetag: 6. April 2004
Veröffentlichung: 18. November 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B08B3/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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