Minimization of coating defects for compositions comprising silicon-based compounds and methods of producing and processing

WO2004101651 Art A1 25. November 2004

Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004101651
Aktenzeichen: EP04751619
Anmeldetag: 7. Mai 2004
Veröffentlichung: 25. November 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Honeywell International Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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