Pattern dimension correction device and method, photo mask, and test photo mask

WO2004104700 Art A1 2. Dezember 2004

Anmelder: FUJITSU LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004104700
Aktenzeichen: EP04745325
Anmeldetag: 26. Mai 2004
Veröffentlichung: 2. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJITSU LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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