Apparatus and methods for compensating plasma sheath non-uniformities at the substrate in a plasma processing system

WO2004107387 Art A2 9. Dezember 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004107387
Aktenzeichen: EP04785640
Anmeldetag: 20. Mai 2004
Veröffentlichung: 9. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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