Plasma source and plasma processing apparatus

WO2004107825 Art A1 9. Dezember 2004

Anmelder: Goto, Toshio, Hori, Masaru, TOKYO ELECTRON LIMITED, Katagiri Engineering Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004107825
Aktenzeichen: EP04745416
Anmeldetag: 28. Mai 2004
Veröffentlichung: 9. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/24H05H1/46H01L21/31H01L21/3065C01B31/02C23C16/513

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Goto, Toshio
Hori, Masaru
TOKYO ELECTRON LIMITED
Katagiri Engineering Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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