Vorrichtung F R die Erzeugung und / oder Beeinflussung Elekt Romagnetischer Strahlung eines Plasmas

WO2004109405 Art A2 16. Dezember 2004

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004109405
Aktenzeichen: EP04734993
Anmeldetag: 27. Mai 2004
Veröffentlichung: 16. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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