Relative pressure control system and relative flow rate control system

WO2004109420 Art A1 16. Dezember 2004

Anmelder: CKD Corporation, TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004109420
Aktenzeichen: EP04745595
Anmeldetag: 4. Juni 2004
Veröffentlichung: 16. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G05D16/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: CKD Corporation
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 CKD

CKD ist ein japanischer Hersteller von Automatisierungs-, Pneumatik- und Verpackungstechnik mit Sitz in Komaki. Das Patentportfolio betrifft Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik sowie Maschinenelemente und Fluidtechnik, insbesondere Ventile und Fördersysteme. Die Anmeldungen erstrecken sich von 2001 bis 2025.

262 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von