Treatment gas supply mechanism, film-forming device, and film-forming method

WO2004111297 Art A1 23. Dezember 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004111297
Aktenzeichen: EP04745698
Anmeldetag: 9. Juni 2004
Veröffentlichung: 23. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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