Process for depositing film, process for fabricating semiconductor device, semiconductor device and system for depositing film

WO2004112114 Art A1 23. Dezember 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004112114
Aktenzeichen: EP04729714
Anmeldetag: 27. April 2004
Veröffentlichung: 23. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/285H01L21/768H01L21/3205C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von