Remover liquid and removing method for antireflective film and buried material containing silicon

WO2004112115 Art A1 23. Dezember 2004

Anmelder: DAIKIN INDUSTRIES, LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004112115
Aktenzeichen: EP04745955
Anmeldetag: 9. Juni 2004
Veröffentlichung: 23. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304G03F7/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: DAIKIN INDUSTRIES, LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Daikin Industries

Japanischer Hersteller von Klima- und Kältetechnik mit Sitz in Osaka. Daikin entwickelt Klimaanlagen, Wärmepumpen, Kältemittel und Fluorchemikalien für Gebäude- und Industrieanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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