Finfet mit Silizium Gate Doppellage zur Chemisch Mechanischen Planarisierung

WO2004112146 Art A1 23. Dezember 2004

Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004112146
Aktenzeichen: EP04754350
Anmeldetag: 5. Juni 2004
Veröffentlichung: 23. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/423H01L29/49H01L29/786H01L21/336

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Advanced Micro Devices

US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.

2.407 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von

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