Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby

WO2004114018 Art A2 29. Dezember 2004

Anmelder: ASML Netherlands B.V., van Empel, Tjarko Adriaan Rudolf, Zaal, Koen Jacobus Johannes Maria, Van Meer, Aschwin Lodewijk Hendricus Johannes 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004114018
Aktenzeichen: EP04748678
Anmeldetag: 23. Juni 2004
Veröffentlichung: 29. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
van Empel, Tjarko Adriaan Rudolf
Zaal, Koen Jacobus Johannes Maria
Van Meer, Aschwin Lodewijk Hendricus Johannes
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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