Heat treatment apparatus

WO2004114377 Art A1 29. Dezember 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004114377
Aktenzeichen: EP04746216
Anmeldetag: 22. Juni 2004
Veröffentlichung: 29. Dezember 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/22H01L21/31H01L21/324C23C16/46H05B3/20F27B5/14F27D11/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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