Non-destructive quality control method for microarray substrate coatings via labeled doping
WO2005000760
Art A2
6. Januar 2005
Anmelder: Schott AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005000760
- Aktenzeichen
- EP04754891
- Anmeldetag
- 10. Juni 2004
- Veröffentlichung
- 6. Januar 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C03C17/34C03C17/30G01N33/533G01N21/76G01N33/545
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Schott AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
SCHOTT
Deutsches Technologieunternehmen mit Sitz in Mainz, spezialisiert auf Spezialglas und Glaskeramik für Pharma-, Optik-, Elektronik- und Haushaltsanwendungen.
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