Photoresist Polymers

WO2005000924 Art A1 6. Januar 2005

Anmelder: Symyx Technologies, Inc., JSR Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005000924
Aktenzeichen: EP04777059
Anmeldetag: 25. Juni 2004
Veröffentlichung: 6. Januar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/18C08F220/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Symyx Technologies, Inc.
JSR Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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