Polishing composition and method for polishing substrate using the composition

WO2005000984 Art A1 6. Januar 2005

Anmelder: Showa Denko K.K., Yamaguchi Seiken Kogyo K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005000984
Aktenzeichen: EP04746862
Anmeldetag: 25. Juni 2004
Veröffentlichung: 6. Januar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C09G1/02C09G1/04H01L21/321

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Showa Denko K.K.
Yamaguchi Seiken Kogyo K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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