Sputtering source for ionized physical vapor deposition of metals

WO2005001156 Art A2 6. Januar 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005001156
Aktenzeichen: EP04785750
Anmeldetag: 13. Mai 2004
Veröffentlichung: 6. Januar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/35H01J37/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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