Mask material for reactive ion etching, mask and dry etching method

WO2005001161 Art A1 6. Januar 2005

Anmelder: TDK Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005001161
Aktenzeichen: EP04745826
Anmeldetag: 11. Juni 2004
Veröffentlichung: 6. Januar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C23F4/00G11B5/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TDK Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 TDK Corporation

TDK Corporation ist ein japanischer Hersteller elektronischer Bauteile, bekannt für Kondensatoren, Sensoren, Batterien und Magnetwerkstoffe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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