Optical unit, image-forming optical system, method for adjusting aberration of image-forming optical system, projection optical system, method for producing projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

WO2005001544 Art A1 6. Januar 2005

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005001544
Aktenzeichen: EP04746202
Anmeldetag: 22. Juni 2004
Veröffentlichung: 6. Januar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G02B13/24G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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