Resist composition with enhanced x-ray and electron sensitivity

WO2005001574 Art A1 6. Januar 2005

Anmelder: The Government of the United States of America as represented by the Secretary of the Navy 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005001574
Aktenzeichen: EP04775830
Anmeldetag: 9. März 2004
Veröffentlichung: 6. Januar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03C1/76

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: The Government of the United States of America as represented by the Secretary of the Navy
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 The Government of the United States of America As Represented By the Secretary of the Navy

Dieser Anmelder steht für Patente der US-Marine, angemeldet über die Regierung der Vereinigten Staaten. Das Patentportfolio deckt breit Halbleiterbauelemente, Mess- und Prüftechnik sowie Optik- und Fototechnik für militärische und maritime Forschung ab. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

496 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von