Resin for positive resist composition, and positive resist composition using the same, laminate and method for forming resist pattern
WO2005003196
Art A1
13. Januar 2005
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005003196
- Aktenzeichen
- EP04747343
- Anmeldetag
- 5. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 13. Januar 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F212/14C08F220/18G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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