Photosensitive fluororesin composition, cured film obtained from the composition, and method of forming pattern
WO2005006077
Art A1
20. Januar 2005
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005006077
- Aktenzeichen
- EP04747035
- Anmeldetag
- 6. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 20. Januar 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/038G03F7/075
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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