Negative photosensitive resin composition and negative photosensitive element

WO2005008338 Art A1 27. Januar 2005

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005008338
Aktenzeichen: EP04747650
Anmeldetag: 16. Juli 2004
Veröffentlichung: 27. Januar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G02F1/1337

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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