Template creation method and device, pattern detection method, position detection method and device, exposure method and device, device manufacturing method, and template creation program

WO2005008753 Art A1 27. Januar 2005

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005008753
Aktenzeichen: EP04734080
Anmeldetag: 20. Mai 2004
Veröffentlichung: 27. Januar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20G01B11/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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