Cvd-Verfahren zum Abscheiden mindestens einer Iii-V-N-Schicht auf einem Substrat

WO2005010231 Art A2 3. Februar 2005

Anmelder: AIXTRON AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005010231
Aktenzeichen: EP04741880
Anmeldetag: 24. Juni 2004
Veröffentlichung: 3. Februar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/02C23C16/30C30B25/02C30B29/40C30B25/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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