Inspektion von Lithographischen Masken für die Euv-Lithographie und Dergleichen

WO2005010612 Art A2 3. Februar 2005

Anmelder: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005010612
Aktenzeichen: EP04751656
Anmeldetag: 7. Mai 2004
Veröffentlichung: 3. Februar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00G03F1/14G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Wisconsin Alumni Research Foundation

US-amerikanische, mit der University of Wisconsin-Madison verbundene Organisation, die Patente aus universitärer Forschung verwaltet und lizenziert. Die Stiftung wurde 1925 gegründet.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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