Positive Type Photosensitive Resin Composition

WO2005010615 Art A1 3. Februar 2005

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005010615
Aktenzeichen: EP04771156
Anmeldetag: 28. Juli 2004
Veröffentlichung: 3. Februar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/022G03F7/023G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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