Two-dimensional patterning method, electronic device using same, and magnetic device fabricating method

WO2005010968 Art A1 3. Februar 2005

Anmelder: Japan Science and Technology Agency, National Institute for Materials Science 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005010968
Aktenzeichen: EP04771121
Anmeldetag: 27. Juli 2004
Veröffentlichung: 3. Februar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Japan Science and Technology Agency
National Institute for Materials Science
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Japan Science and Technology Agency

Japanische staatliche Förderorganisation für Wissenschaft und Technologie, die Forschungsprojekte finanziert und den Technologietransfer zwischen Universitäten und Industrie unterstützt. Die Behörde untersteht dem japanischen Bildungsministerium.

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🇯🇵 National Institute for Materials Science

Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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