Modified epoxy resin, process for production thereof, photosensitive resin compositions and photosensitive elements

WO2005012384 Art A1 10. Februar 2005

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005012384
Aktenzeichen: EP04746908
Anmeldetag: 2. Juli 2004
Veröffentlichung: 10. Februar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C08G59/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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