Method for slowing down dopand diffusion in semiconductor substrates and devices fabricated therefrom

WO2005013344 Art A1 10. Februar 2005

Anmelder: International Business Machines Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005013344
Aktenzeichen: EP04766301
Anmeldetag: 23. Juli 2004
Veröffentlichung: 10. Februar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/265H01L21/324

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: International Business Machines Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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