Near-field exposure method and apparatus, near-field exposure mask, and device manufacturing method

WO2005015311 Art A2 17. Februar 2005

Anmelder: CANON KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005015311
Aktenzeichen: EP04771623
Anmeldetag: 6. August 2004
Veröffentlichung: 17. Februar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CANON KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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