Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zum Einbringen einer Immersionsflüssigkeit in einen Immersionsraum
WO2005015315
Art A2
17. Februar 2005
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005015315
- Aktenzeichen
- EP04740766
- Anmeldetag
- 8. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 17. Februar 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Schwanhäusser, Gernot
Stuttgart, Deutschland
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