Projection objective for microlithography

WO2005015316 Art A2 17. Februar 2005

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, Shafer, David 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005015316
Aktenzeichen: EP04741228
Anmeldetag: 23. Juli 2004
Veröffentlichung: 17. Februar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B17/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT AG
Shafer, David
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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