High accuracy low leakage valve for high pressure applications

WO2005015335 Art A2 17. Februar 2005

Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005015335
Aktenzeichen: EP04786453
Anmeldetag: 5. August 2004
Veröffentlichung: 17. Februar 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G05D16/10

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Honeywell International Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

13.051 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von