Plasma processing method and apparatus

WO2005015963 Art A1 17. Februar 2005

Anmelder: SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2005015963
Aktenzeichen
EP04771192
Anmeldetag
4. August 2004
Veröffentlichung
17. Februar 2005
Rechtsraum
WO
IPC
H05H1/24H05H1/46H01L21/205H01L21/3065H01L21/304C23C16/505
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sekisui Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.

1.407 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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