Method of producing phase shift masks
WO2005017621
Art A1
24. Februar 2005
Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005017621
- Aktenzeichen
- EP04748308
- Anmeldetag
- 9. August 2004
- Veröffentlichung
- 24. Februar 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HOYA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hoya
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.
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