Reflection film optical recording medium and silver alloy sputtering target for forming reflection film
WO2005020222
Art A1
3. März 2005
Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005020222
- Aktenzeichen
- EP04771727
- Anmeldetag
- 17. August 2004
- Veröffentlichung
- 3. März 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G11B7/24G11B7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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