Method and appartus for depositing materials with tunable properties

WO2005021832 Art A2 10. März 2005

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005021832
Aktenzeichen: EP04786523
Anmeldetag: 18. August 2004
Veröffentlichung: 10. März 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/509C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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