Vacuum device, operation method for vacuum device, exposure system, and operation method for exposure system

WO2005022613 Art A1 10. März 2005

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005022613
Aktenzeichen: EP04772091
Anmeldetag: 17. August 2004
Veröffentlichung: 10. März 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

5.286 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von