Polishing composition and polishing method using same
WO2005022621
Art A1
10. März 2005
Anmelder: FUJIMI INCORPORATED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005022621
- Aktenzeichen
- EP04772303
- Anmeldetag
- 27. August 2004
- Veröffentlichung
- 10. März 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIMI INCORPORATED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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