Memory cell structure having nitride layer with reduced charge loss and method for fabricating same
WO2005027210
Art A1
24. März 2005
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005027210
- Aktenzeichen
- EP04782753
- Anmeldetag
- 31. August 2004
- Veröffentlichung
- 24. März 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/28H01L21/336H01L21/8246H01L21/8247H01L27/115H01L29/788H01L29/792
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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Fachgebiete
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