Production method for thin film and production method for thin film wire and pulse laser vapor deposition device

WO2005028696 Art A1 31. März 2005

Anmelder: Sumitomo Electric Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005028696
Aktenzeichen: EP04771647
Anmeldetag: 6. August 2004
Veröffentlichung: 31. März 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/28H01B13/00H01L39/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Electric Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Electric Industries

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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