Substrate processing device and device producing method

WO2005029020 Art A1 31. März 2005

Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005029020
Aktenzeichen: EP04787962
Anmeldetag: 22. September 2004
Veröffentlichung: 31. März 2005
Rechtsraum: WO
IPC: G01J5/00H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Kokusai Electric Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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