Liquid photo solder resist composition and photo solder resist film thereof
WO2005029177
Art A1
31. März 2005
Anmelder: KOLON INDUSTRIES, INC. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2005029177
- Aktenzeichen
- EP04733490
- Anmeldetag
- 17. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 31. März 2005
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03C1/04G03F7/039C08F299/06C08F2/50C08G18/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KOLON INDUSTRIES, INC.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Kolon Industries
Südkoreanischer Mischkonzern, tätig in Chemie- und Materialtechnik, Herstellung von Industriefasern, Kunststoffen und Textilprodukten.
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