Polishing composition for silicon wafer and polishing method

WO2005029563 Art A1 31. März 2005

Anmelder: Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005029563
Aktenzeichen: EP04787628
Anmeldetag: 6. September 2004
Veröffentlichung: 31. März 2005
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B24B37/00C09K3/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nippon Chemical Industrial Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Chemical Industrial

Nippon Chemical Industrial ist ein japanischer Chemiehersteller mit Sitz in Tokio, der unter anderem anorganische Feinchemikalien und leitfähige Partikel produziert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf anorganische Chemie sowie Halbleiter- und elektrische Bauelemente. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

257 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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