Ceramic film structure and forming method and device therefor

WO2005031036 Art A1 7. April 2005

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2005031036
Aktenzeichen: EP04771332
Anmeldetag: 6. August 2004
Veröffentlichung: 7. April 2005
Rechtsraum: WO
IPC: C23C24/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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